【R2-No.7】研究紹介:シリコン系薄膜半導体素子に関する研究

本研究室では、ディスプレイの画素駆動などに用いられるシリコン系の半導体材料について電気特性の改善を目的に研究を行なっています。フレキシブルディスプレイなどの実現に向けて、プラスティック基板上へ良質な半導体膜を作製する研究が進んでおり、その手法としてレーザによる急速熱処理が挙げられます。本稿では、プラスティック基板上シリコン膜をレーザによる急速熱処理を用いて改質する際の温度シミュレーションの内容を紹介します。

図1.レーザ照射中の試料内部の温度分布シミュレーション(断面図)

琉球大学 工学部 工学科 電子情報通信コース・助教 岡田 竜弥
(E-mail:tokada@tec.u-ryukyu.ac.jp)

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